Pengaruh energi dan dosis ion oksigen pada lapisan tipis SiO2 yang dihasilkan dengan metode implantasi

Detail Tugas Akhir

Pengaruh energi dan dosis ion oksigen pada lapisan tipis SiO2 yang dihasilkan dengan metode implantasi

Aji, Rufisius Sintoko (2004) Pengaruh energi dan dosis ion oksigen pada lapisan tipis SiO2 yang dihasilkan dengan metode implantasi. Skripsi thesis, Sanata Dharma University.

Berkas Tugas Akhir

PDF

Text (Abstract)
983214002.pdf

Ukuran File (23kB)

PDF

Text (Full)
983214002_Full.pdf
Restricted to Registered users only

Akses terbatas: khusus pengguna terdaftar Ukuran File (576kB)

Informasi Item

Item Type	Thesis (Skripsi)
Subjects	Q Science > QC Physics
Divisions	Faculty of Science and Technology > Departement of Physics
Date Deposited	08 May 2018 00:54
Last Modified	08 May 2018 00:54
URI	https://repository.usd.ac.id/id/eprint/25638

Actions (login required)

: View Item

Repositori USDPerpustakaan Universitas Sanata Dharma

Sekretariat 0274-880137 Ext: 1538 628112652539 library@usd.ac.id

Telusur

Layanan

Informasi

Kampus 2Jl. Affandi, Mrican, Caturtunggal, Kec. Depok, Kabupaten Sleman, Daerah Istimewa Yogyakarta 55281
PelayananSenin–Jumat, 07.30–21.00 WIB
Sabtu, 08.00–12.30 WIB
Libur kampus tutup.